Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки
Тема:
Технология производства
УДК:
539.216.2.002—546.28
Посилання:
Особенности получения тонких пленок SiO₂ методом быстрой термической обработки / А.М. Светличный, О.А. Агеев, Д.А. Шляховой // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2001. — № 4-5. — С. 38-43. — Бібліогр.: 29 назв. — рос.
Дата:
2001
Переглядів:
793
Завантажень:
1678
Анотація:
Рассмотрены физические процессы, протекающие в системе О₂–SiO₂–Si под действием некогерентного излучения в период окисления кремния методом быстрой термической обработки.
