Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Modelling vacancy microvoid formation in dislocation-free silicon single crystals

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Talanin, V.I.
dc.contributor.author Talanin, I.E.
dc.contributor.author Koryagin, S.A.
dc.contributor.author Semikina, M.Yu.
dc.date.accessioned 2017-06-15T03:44:16Z
dc.date.available 2017-06-15T03:44:16Z
dc.date.issued 2006
dc.identifier.citation Modelling vacancy microvoid formation in dislocation-free silicon single crystals / V.I. Talanin, I.E. Talanin, S.A. Koryagin, M.Yu. Semikina // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2006. — Т. 9, № 4. — С. 77-81. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1560-8034
dc.identifier.other PACS 61.72Bb, 61.72.Jj, 61.72.Yx
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121641
dc.description.abstract An alternative mathematical model of vacancy microvoid formation in dislocation-free silicon single crystals was represented. The analysis of conditions of microvoid nucleation inside the bulk of crystals during cooling after their growth was carried out. The possibility of formation of a quasi-stationary microvoid profile in large-scale crystals within the temperature range 1130…1070 °С has been shown. uk_UA
dc.description.sponsorship This scientific work was made by the budgetary funds of Ministry of Education and Science of Ukraine as the grant of the President of Ukraine. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
dc.title Modelling vacancy microvoid formation in dislocation-free silicon single crystals uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис