Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Физическая инженерия поверхности
→
Физическая инженерия поверхности, 2014 (том 12)
→
Физическая инженерия поверхности, 2014, № 2
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Глушко, П.И.
dc.contributor.author	Журавлёв, А.Ю.
dc.contributor.author	Семёнов, Н.А.
dc.contributor.author	Хованский, Н.А.
dc.contributor.author	Широков, Б.М.
dc.contributor.author	Шиян, А.В.
dc.contributor.author	Щербакова, В.В.
dc.date.accessioned	2016-06-20T13:56:12Z
dc.date.available	2016-06-20T13:56:12Z
dc.date.issued	2014
dc.identifier.citation	Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, Н.А. Семёнов, Н.А. Хованский, Б.М. Широков, А.В. Шиян, В.В. Щербакова // Физическая инженерия поверхности. — 2014. — Т. 12, № 2. — С. 219-222. — Бібліогр.: 3 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1999-8074
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/103567
dc.description.abstract	Исследована кинетика перераспределения фаз в системе MoSi₂-W при 1500—1800 °С. Определены кинетические параметры роста низших силицидов (Mo, W)5Si₃ и уменьшение слоя высшего силицида MoSi₂ в зависимости от температуры окисления. Установлено, что стабильность системы MoSi₂-W превышает стабильность систем MoSi₂-Mo и WSi₂-W.	uk_UA
dc.description.abstract	Досліджено кінетику перерозподілу фаз у системі MoSi₂-W при 1500—1800 °С. Визначено кінетичні параметри росту нижчих силіцидів (Mo, W)5Si₃ і зменшення шару вищого силіциду MoSi₂ залежно від температури окислення. Встановлено, що стабільність системи MoSi₂-W перевищує стабільність систем MoSi₂-Mo і WSi₂-W.	uk_UA
dc.description.abstract	The kinetics of phase redistribution in the MoSi₂-W system has been investigated in the temperature range 1500—1800 °С. Kinetic parameters for growth of low silicides (Mo, W)5Si₃ and loss of the highest silicide MoSi₂ were determined depending on the temperature of oxidation. It is that stability of multicomponent and multiphase systems MoSі₂-W exceeds stability system MoSі₂-Mo and WSі₂-W.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Физическая инженерия поверхности
dc.title	Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С	uk_UA
dc.title.alternative	Дослідження кінетики утворювання фаз у системі MoSi₂-W в умовах нагрівання при температурах 1500—1800 °С	uk_UA
dc.title.alternative	The kinetics of phase formation in system MoSi₂-W under heating at temperature 1500—1800 °C	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	669.018.298