Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2000
→
Вопросы атомной науки и техники, 2000, № 3
→
Переглянути статтю

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

Famakinwa, T. ; Ikezawa, S. ; Homyara, H. ; Yoshioka, T. ; Nakamura, K. ; Ninomiya, Y. ; Oda, H. ; Hara, T. ; Hori, M. ; Fujii, S. ; Yoshimura, K. ; Taoda, H.

Тема: Low Temperature Plasma and Plasma Technologies

УДК: 533.9

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384

Посилання: Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Дата: 2000

Завантажень: 369