Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

dc.contributor.author	Famakinwa, T.
dc.contributor.author	Ikezawa, S.
dc.contributor.author	Homyara, H.
dc.contributor.author	Yoshioka, T.
dc.contributor.author	Nakamura, K.
dc.contributor.author	Ninomiya, Y.
dc.contributor.author	Oda, H.
dc.contributor.author	Hara, T.
dc.contributor.author	Hori, M.
dc.contributor.author	Fujii, S.
dc.contributor.author	Yoshimura, K.
dc.contributor.author	Taoda, H.
dc.date.accessioned	2015-05-29T07:56:55Z
dc.date.available	2015-05-29T07:56:55Z
dc.date.issued	2000
dc.identifier.citation	Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size / T. Famakinwa, S. Ikezawa, H. Homyara, T. Yoshioka, K. Nakamura, Y. Ninomiya, H. Oda, T. Hara, M. Hori, S. Fujii, K. Yoshimura and H. Taoda // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 3. — С. 159-161. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82384
dc.language.iso	en	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Low Temperature Plasma and Plasma Technologies	uk_UA
dc.title	Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	533.9