Представлены результаты экспериментов по исследованию физических и электрохимических свойств легированных азотом электропроводящих алмазоподобных Ta-C:N покрытий. Покрытия получены осаждением из фильтрованной плазмы вакуумно-дугового источника с графитовым катодом в азоте при подаче на подложку ВЧ потенциала 50 ÷ 1000 В. Удельное электросопротивление покрытий, измеренное поперек слоя, составляет 5•10^3 ÷ 2,7•10^7 Ом•см. В электрохимических измерениях на электродах с Ta-C:N покрытиями получена более широкая область идеальной поляризации и меньший фоновый ток по сравнению со стеклоуглеродом. Показана обратимость окислительно-восстановительных реакций в системе K3[Fe(CN)6] + K4[Fe(CN)6]. Стабильность и воспроизводимость результатов измерений свидетельствуют о химической
стабильности полученных Ta-C:N покрытий.
Наведено результати експериментів з дослідження фізичних та електрохімічних властивостей легованих азотом електропровідних алмазоподібних Ta-C:N покриттів. Покриття одержано з фільтрованої плазми вакуумно-дугового джерела з графітовим катодом в азоті за умов прикладення до підкладки ВЧ потенціалу 50 ÷ 1000 В. Питомий електричний опір в напрямку поперек шару складає 5•10^3 ÷ 2,7•10^7 Ом•см. В електрохімічних вимірюваннях на електродах з Ta-C:N покриттями одержано більш широку зону ідеальної поляризації та менший фоновий струм порівняно з скловуглецем. Показано, що окислювально-відновні реакції в системі K3[Fe(CN)6] + K4[Fe(CN)6] є оборотними. Стабільність та відтворюваність результатів вимірювань свідчить про хімічну стабільність одержаних Ta-C:N покриттів.
Results of experiments are presented on investigation of electrochemical and physical characteristics of the electrodes for electrochemical analytical devices coated with the nitrogen-incorporated diamond-like carbon (DLC) Ta-C:N films. The films are deposited from the filtered vacuum-arc plasma source with the graphite cathode in the environment of nitrogen gas and negative substrate potential of 50 ÷ 1000 V produced by use of radio frequency generator. Specific electrical resistance of the films measured in the direction across the layer is of 5•10^3 ÷ 2,7•10^7 Ohm•cm. Electrochemical measurements on the electrodes coated with Ta-C:N films reveal more wide range of ideal polarization zone and low
