Разработана параллельная реализация моделирования процессов фотолитографии для применения на
суперкомпьютере СКИФ К-1000. Использование параллельных средств вычисления позволило получить
хорошие результаты по ускорению процесса формирования изображения в слое фоторезиста и последующего
автоматического контроля оригиналов топологии.
Розроблена паралельна реалізація моделювання процесів фотолітографії для застосування на
суперкомп’ютері СКІФ К-1000. Використання паралельних засобів обчислення дозволило одержати
добрі результати з прискорення процесу формування зображення в шарі фоторезиста і подальшого
автоматичного контролю оригіналів топології.
The parallel realization of modeling of photolithography processes was developed for application on
supercomputer SKIF К-1000. Parallel means of calculation have allowed accelerating of image generation
process in a photoresist layer and the subsequent automatic mask inspection.