Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов
Інші назви:
НВЧ плазмохімічне осадження структур для високоапертурних планарних оптичних хвилеводів
Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide
Microwave plasmochemical deposition of structures for highaperture planar optical waveguide
Тема:
Технологические процессы и оборудование
Посилання:
СВЧ плазмохимическое осаждение структур для высокоапертурных планарных оптических волноводов / В.В. Григорьянц, А.П. Долгов, Л.Ю. Кочмарёв, И.П. Шилов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 39-42. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
Дата:
2005
Переглядів:
791
Завантажень:
580
Анотація:
Представлены результаты разработки технологии и исследования оптических характеристик высокоапертурных ПОВ на основе SiO₂-F | SiO₂ | SiO₂-F-структур, формируемых в плазме СВЧ-разряда.
