Інші назви:Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering
Посилання:Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения.