Свойства металлических контактов на пленках TiO₂, изготовленных методом реактивного магнетронного распыления

Abstract

Исследованы вольт-амперные характеристики металлических контактов на тонких пленках диоксида титана, а также влияние отжига структур в вакууме на их электрические свойства.

Досліджено вольт-амперні характеристики металевих кон тактів (Al, Cr, In, Mo, Ti) на тонких плівках діоксиду титану, а також вплив відпалу структур у вакуумі на їх електричні ластивості. Вимірювання ВАХ металевих контактів проодилися за допомогою трьохзондового методу. Встановлено, що контакт індію на тонких плівках TiO₂ відзначається чітко вираженими омічними властивостями.

The article deals with research on volt-ampere characteristics of metal contacts (Al, Cr, In, Mo, Ti) on titanium dioxide thin films and influence of annealing in vacuum on their electric properties. Volt-ampere characteristics measurements were taken by three-probe method. There was established that indium contact on TiO₂ thin films possessed sharply defined ohmic properties.