Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления

Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления

Вакив, Н.М. ; Погорилко, Я.Р. ; Шпотюк, О.И.

Тема: Технологические процессы

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/140779

Посилання: Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Дата: 1998

Завантажень: 228

Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления

Анотація:

Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.

The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.

Показати повний запис статті