Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления

dc.contributor.author	Вакив, Н.М.
dc.contributor.author	Погорилко, Я.Р.
dc.contributor.author	Шпотюк, О.И.
dc.date.accessioned	2018-07-15T11:32:07Z
dc.date.available	2018-07-15T11:32:07Z
dc.date.issued	1998
dc.identifier.citation	Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления / Н.М. Вакив, Я.Р. Погорилко, О.И. Шпотюк // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1998. — № 3-4. — С. 26-27. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	2225-5818
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/140779
dc.description.abstract	Обсуждается получение резистивных тонкопленочных конденсатов ионно-плазменным распылением металлосилицидных и керметных мишеней на установках УВН-75Р-3.	uk_UA
dc.description.abstract	The realization of resistive thin-film condensats silicide targets by ion-plasma spraying of metalsilicide and cermet targets on ÓBH-O75P-3 sputtering plant are discussed.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Технология и конструирование в электронной аппаратуре
dc.subject	Технологические процессы	uk_UA
dc.title	Получение высокоомных тонкопленочных конденсатов методом ионно-плазменного распыления	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA