Additional lines in quantum wells excitonic spectra connected with QW asymmetry caused by technology

Abstract

The calculations of intensity ratio of both the main and additional lines, the energy differences between which are fulfilled for quantum well (QW) with asymmetrical potential profile, are presented here. It is grounded on the basis of this calculation that additional line in exciton spectrum of QW can be explained by transitions between the confined states of valence and conductivity electrons with different parity, which ceases to be forbidden in the presence of asymmetry of QW potential profile caused by technology of growth. It is shown that e1-hh2 additional exciton line is more intensive in most of the actual cases. In particular, it is shown that the additional exciton line, which was observed in the laser ablation grown structures with QW, may be explained as e1-hh2 transition. The calculations show the substantial sensitivity of the results not only to the parameter of widening of the interface, but to the detailed type of the interface profile function. It is concluded that the laser ablation method of heterostructure growth leads to a larger asymmetry of QW potential profile caused by technology than MBE potential profile.

Проведенi розрахунки вiдношення iнтенсивностей основної i додаткової лiнiй, енергетичної вiдстанi мiж ними для квантових ям (КЯ) з асиметричним потенцiальним профiлем. Обгрунтовано, що додаткова лiнiя у екситонному спектрi КЯ може бути пояснена переходами мiж утримуваними в КЯ станами валентних електронiв i електронiв провiдностi з рiзною парнiстю, якi перестають бути забороненими у присутностi асиметрiї потенцiального профiлю, спричиненої технологiєю вирощування КЯ. Показано, що додаткова екситонна лiнiя типу e1-hh2 є бiльш iнтенсивною в бiльшiй частинi актуальних випадкiв. Зокрема, показано, що додаткова екситонна лiнiя в структурах вирощених методом лазерної абляцiї, може бути пояснена як e1-hh2 перехiд. Розрахунки показують суттєву чутливiсть не лише до параметру розширення iнтерфейсу, але й до функцiї його профiлю. Зроблено висновок, що метод лазерної абляцiї призводить до бiльшої асиметрiї КЯ, нiж метод молекулярно-пучкової епiтаксiї.