Дана обобщенная формулировка подхода Фриделя и развито теоретическое описание эффектов
резонансного рассеяния электронов проводимости на донорных примесях в полупроводниках.
Детально рассмотрены стабилизация электронной концентрации при достижении
энергией Ферми энергии резонансного уровня, концентрационный максимум подвижности,
температурная и концентрационная зависимости магнитной восприимчивости локализованных
резонансных состояний. Обсуждаются пределы применимости полученных результатов.
Дано узагальнене формулювання підходу Фріделя і розвито теоретичний опис ефектів резонансного
розсіювання електронів провідності на донорних домішках у напівпровідниках. Детально
розглянуто стабілізацію електронної концентрації при досягненні енергією Фeрмі
енергії резонансного рівня, концентраційний максимум рухливості, температурна та концентрац
ійна залежності магнітної сприйнятливості локалізованих резонансних станів. Обговорюються
межі застосовності отриманих результатів.
On the basis of Friedel’s approach a theoretical
description of the effects of resonance scattering
of conduction electrons by donor impurities
in semiconductors is developed with allowance
made for the stabilization of electron concentration
when the Fermi energy coincides with the
resonance level energy. It is shown that such a
stabilization gives rise to a maximum in the concentration
dependence and to its related anomalies
in the temperature dependences of electron
mobility. It is also found that in the presence of
resonance scattering of electrons by donor impurities
in semiconductors the density of electrons localized
at impurities makes a contribution to the
spin susceptibility. The related Curie constant
displays an unusual dependence on impurity concentration.
An expression for spin susceptibility
of electrons scattered by resonance is derived in
the framework of Friedel’s approach.