Вакуумно-дуговые источники эрозионной плазмы с магнитными фильтрами. Обзор

Abstract

Кратко рассмотрено современное состояние проблемы генерирования потоков эрозионной вакуумно-дуговой плазмы, очищенной от макрочастиц катодного материала. Приведены реферативные описания 27 вакуумно-дуговых источников плазмы с магнитными фильтрами, предназначенных для использования в технологических процессах осаждения плёнок микро- и нанометрового диапазонов толщин. Использованы материалы патентов и журнальных статей, опубликованных в период с середины 1970-х годов по настоящее время.

Коротко розглянуто сучасний стан проблеми генерування потоків ерозійної вакуумно-дугової плазми, очищеної від макрочасток катодного матеріалу. Наведено реферативні описи 27 вакуумно-дугових джерел плазми з магнітними фільтрами, призначених для використання в технологічних процесах осадження плівок мікро- та манометрового діапазонів товщин. Використано матеріали патентів та журнальних статей, опублікованих в період з середини 1970-х років до теперішнього часу.

The present state of the problem to rid cathodic vacuum arc erosive plasma flows of macro- and nanoparticlesis briefly considered. In this paper there are presented abstract of 27 vacuum arc plasma sources equipped with magnetic filter, which are designed for use in technological processes of deposition of films of micro- and nanometer range of thickness. The data of patents and journal papers issued since the middle of the 1970th till present are used in this review.