Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
→
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології, 2014 (том 12)
→
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології, 2014, № 3
→
Переглянути статтю

Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

Інший ID: PACS numbers: 72.20.Pa, 73.22.-f, 73.50.Lw, 73.61.-r, 81.15.Fg, 81.16.Mk, 85.80.Fi

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107205

Посилання: Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ.

Підтримка: Author thanks to Prof. A. Luches and Dr. A. P. Caricato from the Department of Physics at Salento University, Italy for the help of sample preparation by PLD.

Дата: 2014

Завантажень: 316

Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

Анотація:

Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser.

Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi₂ і β-FeSi₂ із застосуванням ексимерного KrF-лазера.

Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi₂ и β-FeSi₂ с применением эксимерного KrF-лазера.

Показати повний запис статті