Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Mulenko, S.A.
dc.date.accessioned 2016-10-14T16:59:36Z
dc.date.available 2016-10-14T16:59:36Z
dc.date.issued 2014
dc.identifier.citation Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient / S.A. Mulenko // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2014. — Т. 12, № 3. — С. 623–632. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1816-5230
dc.identifier.other PACS numbers: 72.20.Pa, 73.22.-f, 73.50.Lw, 73.61.-r, 81.15.Fg, 81.16.Mk, 85.80.Fi
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/107205
dc.description.abstract Nanostructures in the form of thin films exhibiting the semiconductor properties with a narrow energy-band gap are deposited from the CrSi₂ and β-FeSi₂ targets by means of the pulsed laser deposition (PLD) assisted with an excimer KrF laser. uk_UA
dc.description.abstract Наноструктури у формі тонких плівок, що проявили напівпровідникові властивості, з вузькою енергетичною забороненою зоною було осаджено методом імпульсного лазерного осадження (PLD) з мішеней CrSi₂ і β-FeSi₂ із застосуванням ексимерного KrF-лазера. uk_UA
dc.description.abstract Наноструктуры в форме тонких плёнок, которые проявили полупроводниковые свойства, с узкой энергетической запрещённой зоной были осаждены методом импульсного лазерного осаждения (PLD) из мишеней CrSi₂ и β-FeSi₂ с применением эксимерного KrF-лазера. uk_UA
dc.description.sponsorship Author thanks to Prof. A. Luches and Dr. A. P. Caricato from the Department of Physics at Salento University, Italy for the help of sample preparation by PLD. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
dc.title Pulsed Laser Deposition of Thin Iron and Chromium Silicide Films with Large Thermoelectromotive Force Coefficient uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис