Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия
Репозиторій DSpace/Manakin
Вхід
|
Допомога
Статистика
Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Технология и конструирование в электронной аппаратуре
→
Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005
→
Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005, № 6
→
Переглянути статтю
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия
Борисенко, А.Г.
;
Полозов, Б.П.
;
Федорович, О.А.
;
Болтовец, Н.С.
;
Иванов, В.Н.
;
Свешников, Ю.Н.
Інші назви:
Плазмохімічне травлення епітаксійних структур нітріда галію
Plasmochemical etching of epitaxial nitride gallium structures
Тема:
Технологические процессы и оборудование
URI:
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/53683
Посилання:
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия / А.Г. Борисенко, Б.П. Полозов, О.А. Федорович, Н.С. Болтовец, В.Н. Иванов, Ю.Н. Свешников // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2005. — № 6. — С. 42-46. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.
Дата:
2005
Переглядів:
863
Завантажень:
1009
Плазмохимическое травление эпитаксиальных структур нитрида галлия
Анотація:
Описаны особенности технологии травления сложных наноструктур, содержащих эпитаксиальные слои нитрида галлия, нанесенные на подложки из сапфира. Изготовлены высокотемпературные датчики Холла.
Показати повний запис статті
Файли у цій статті
Name:
11-Borisenko.pdf
Розмір:
206.4Кб
Формат:
PDF
Перегляд/
Відкрити
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005, № 6
[17]
Пошук
Пошук
Ця колекція
Розширений пошук
Перегляд
Вся бібліотека
Розділи і Колекції
За датою випуску
Автори
Назви
Теми
Колекція
За датою випуску
Автори
Назви
Теми
Мій обліковий запис
Логін
Реєстрація