Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления
Інші назви:
Осадження плівок TiN та TiO₂ в оберненому циліндричному магнетроні методом реактивного розпилення
Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering
Deposition of the TiN andTiO₂, films in the inverted cylindrical direct-current magnetron by a reactive sputtering
Тема:
Технологические процессы и оборудование
Посилання:
Осаждение пленок TiN и TiO₂ в обращенном цилиндрическом магнетроне методом реактивного распыления / Е.Г. Костин, A.В. Демчишин // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2008. — № 4. — С. 47-51. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
Дата:
2008
Переглядів:
736
Завантажень:
1064
Анотація:
Рассмотрена возможность контроля условий получения стехиометрических пленок TiN и TiO₂ по спектральным характеристикам плазмы магнетронного разряда и по изменению разрядного напряжения.
