Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Перегляд за темою "Новое технологическое оборудование для микроэлектроники"

Репозиторій DSpace/Manakin

Перегляд за темою "Новое технологическое оборудование для микроэлектроники"

Сортувати за: Порядок: Результатів:

  • Фареник, В.И. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2002)
    Выполнены разработки малоэнергоемкого плазменного технологического оборудования на основе разрядов с комбинированными постоянным и переменным электрическим и магнитным полями. В настоящей работе приведены результаты ...
  • Ащеулов, А.А.; Дунаенко, А.Х.; Фотий, В.Д. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2004)
    Комплекс ИКФ-009 позволяет сократить время и стоимость этапов при разработке приемников излучения и повысить достоверность измеряемых параметров при высокой надежности эксплуатации.
  • Дунаенко, А.Х.; Фотий, В.Д.; Ащеулов, А.А. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2003)
    Камера тепла и холода (КТХ) предназначена для измерения фотоэлектрических параметров (ФЭП) и испытаний на надежность изделий фотоэлектронной техники в диапазоне температур от -60 до +100°С. Конструкция КТХ обеспечивает ...
  • Дудник, С.Ф.; Залюбовский, И.И.; Сагалович, А.В.; Сагалович, В.В.; Фареник, В.И. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2001)
    Обосновано применение композиционных материалов типа "основа-покрытие" в качестве конструкционных материалов для некоторых энергоемких узлов технологического оборудования микроэлектроники (элементы, тепловые узлы, тепловые ...
  • Савицкий, Г.В.; Бончик, А.Ю.; Ижнин, И.И.; Кияк, С.Г.; Могиляк, И.А.; Тростинский, И.П. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2002)
    Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях ...
  • Дудин, С.В.; Яцков, А.П.; Фареник, В.И. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2002)
    Проведен обзор методов и устройств зондового контроля плазменных технологических процессов. Описана серия приборов «Контроль», использующих специально разработанные схемы компенсации и обработки зондового сигнала, а также ...
  • Будянский, А.М.; Фареник, В.И.; Яцков, А.П. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2001)
    Проведено изучение природы скачков интенсивности ВЧ-разряда, возникающих в цепи автоматических согласующих устройств генераторов при эксплуатации ВЧ газоразрядных систем. Показано, что наличие или отсутствие скачков в ...
  • Ковтун, Г.П.; Кравченко, А.И.; Щербань, А.П. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2001)
    Изложены особенности разработанной установки для выращивания монокристаллов GaAs диаметром 80—100 мм под слоем флюса в условиях низкого температурного градиента. Монокристаллы GaAs характеризуются низкой плотностью дислокаций ...
  • Вакив, Н.М.; Завербный, И.Р.; Заячук, Д.М.; Круковский, С.И.; Мрыхин, И.О. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2005)
    Описана разработанная установка и методика электрохимического профилирования многослойных эпитаксиальных структур n-GaAs.