Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Савицкий, Г.В. ; Бончик, А.Ю. ; Ижнин, И.И. ; Кияк, С.Г. ; Могиляк, И.А. ; Тростинский, И.П.

Інші назви: Modernization of the "Oникс" system for photon annealing of semiconductor wafers

Тема: Новое технологическое оборудование для микроэлектроники

УДК: 621.382: 621.315.59

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70808

Посилання: Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс” / Г.В. Савицкий, А.Ю. Бончик, И.И. Ижнин, С.Г. Кияк, И.А. Могиляк, И.П. Тростинский // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2002. — № 6. — С. 45-47. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Дата: 2002

Завантажень: 1128

Модернизация установки фотонного отжига полупроводниковых пластин “Оникс”

Анотація:

Проведена модернизация промышленной установки фотонного отжига полупроводниковых пластин "Оникс" для обеспечения повторяемости и воспроизводимости температурно-временных циклов отжига малой длительности при высоких скоростях нарастания температуры. Управляющая программа позволяет формировать температурно-временную диаграмму процесса отжига пластин по заданной с точностью установления времени ~0,01 секунды с визуальным контролем.

Modernisation of the “Oникс” system for photon annealing of semiconductor wafers was carried out. It has provided to increase a repetition and reproducibility of the temperature-time annealing cycles with small duration at high temperature increasing rate. The control software of the IBM compatible PC allows to form the temperature-time annealing cycle according to adjusted one with the time accuracy established about 0,01 s at the typical annealing time up to 100 s and annealing temperature up to 1000°C.

Показати повний запис статті