Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
| dc.contributor.author | Глушко, П.И. | |
| dc.contributor.author | Журавлёв, А.Ю. | |
| dc.contributor.author | Капустин, В.Л. | |
| dc.contributor.author | Левенец, В.В. | |
| dc.contributor.author | Семенов, Н.А. | |
| dc.contributor.author | Хованский, Н.А. | |
| dc.contributor.author | Шеремет, В.И. | |
| dc.contributor.author | Широков, Б.М. | |
| dc.contributor.author | Шиян, А.В. | |
| dc.date.accessioned | 2015-04-09T08:15:21Z | |
| dc.date.available | 2015-04-09T08:15:21Z | |
| dc.date.issued | 2014 | |
| dc.identifier.citation | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок / П.И. Глушко, А.Ю. Журавлёв, В.Л. Капустин, В.В. Левенец, Н.А. Семенов, Н.А. Хованский, В.И. Шеремет, Б.М. Широков, А.В. Шиян // Вопросы атомной науки и техники. — 2014. — № 1. — С. 167-169. — Бібліогр.: 7 назв. — рос. | uk_UA |
| dc.identifier.issn | 1562-6016 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/79936 | |
| dc.description.abstract | Разработан и изготовлен сублимационный источник атомов для нанесения плёнок методом молекулярно- лучевой эпитаксии. С использованием сублимационного источника получены эпитаксиальные кремний- германиевые пленки с различным содержанием германия. | uk_UA |
| dc.description.abstract | Розроблено і виготовлено сублімаційне джерело атомів для нанесення плівок методом молекулярно- променевої епітаксії. З використанням сублімаційного джерела отримано епітаксійні кремній-германієві плівки з різним вмістом германію. | uk_UA |
| dc.description.abstract | The atom sublimation source for application the films by molecular beam epitaxy method is developed and made. The epitaxial silicon-germanium films with different germanium content were obtained with the help of sublimation source. | uk_UA |
| dc.language.iso | ru | uk_UA |
| dc.publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України | uk_UA |
| dc.relation.ispartof | Вопросы атомной науки и техники | |
| dc.subject | Физика и технология конструкционных материалов | uk_UA |
| dc.title | Сублимационный источник для нанесения эпитаксиальных Si-Ge-плёнок | uk_UA |
| dc.title.alternative | Сублімаційне джерело для нанесення епітаксійних Si-Ge-плівок | uk_UA |
| dc.title.alternative | Sublimation source for application the epitaxial Si-Ge films | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
| dc.status | published earlier | uk_UA |
| dc.identifier.udc | 669.094.54:661.87.621:661.668 |
