Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems

Abstract

The high-current pulsed magnetron sputtering system is presented and its operation regimes are studied. The comparative technological trials of the system are carried out at various types of the discharge: stationary magnetron, pulsed magnetron and pulsed arc. A procedure of calculation of dynamics and distribution of temperature in a near surface layer of the target material at heat application to a surface in conditions of low pressures of working gases is described.

Описана сильнострумова імпульсна магнетронна розпилювальна система та вивчені режими її роботи. Проведені порівняльні технологічні випробування системи при різних типах розряду: стаціонарному магнетронному, імпульсному магнетронному та імпульсному дуговому. Приведена методика розрахунку динаміки і розподілу температури в приповерхневому шарі матеріалу мішені при підводі тепла до поверхні в умовах низьких тисків робочих газів.

Представлена сильноточная импульсная магнетронная распылительная система и изучены режимы ее работы. Проведены сравнительные технологические испытания системы при различных типах разряда: стационарном магнетронном, импульсном магнетронном и импульсном дуговом. Приведена методика вычисления динамики и распределения температуры в приповерхностном слое материала мишени при подводе тепла к поверхности в условиях низких давлений рабочих газов.