Буранич, В.В.; Шелест, И.В.; Гончаров, А.А.; Юнда, А.Н.; Гончарова, С.А.
(Журнал физики и инженерии поверхности, 2018)
Проведен анализ технологических особенностей процессов DC- и RF- магнетронных разрядов. Показано, что различия в образовании и поддержании плазменной оболочки оказывают различное воздействие на распыляемый и осаждаемый ...