Исследовано фотокаталитическое обеззараживание культуры микромицетов Candida albicans в водных средах в зависимости от дозы облучения (диапазон УФ-А), рН среды, концентрации H₂O₂, ионов железа (II), (III) и фосфатных ионов. Предложена интерпретация влияния указанных факторов на скорость протекания изучаемого процесса. Показана перспективность использования систем УФ/H₂O₂ и фото-Фентона применительно к обеззараживанию водных сред от микромицетов Candida albicans.
Досліджено фотокаталітичне знезараження культури мікроміцетів Candida albicans у водних середовищах в залежності від дози опромінення (діапазон УФ-А), рН середовища, концентрації H₂O₂, йонів заліза (II), (III) та фосфатних йонів. Запропоновано інтерпретацію впливу вказаних факторів на швидкість проходження досліджуваного процесу. Показано перспективність використання систем УФ/H₂O₂ та фото- Фентона відносно знезараження водних середовищ від мікром- іцетів Candida albicans.
The effect of UV-A irradiance dose, pH, concentration of H₂O₂, ferrous and ferric ions and phosphatic ions on the inactivation of Candida albicans was investigated. The interpretation of influence of specified factors on disinfection process has been proposed. It was shown that UV/ H₂O₂ and photo-Fenton system are perspective for usage in the disinfection of the water contaminated by Candida albicans.