Analysis of methods for high-speed forming the relief microimages on metallic substrates

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
→
Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2007, том 10
→
Semicond. Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2007, № 4
→
Переглянути статтю

Analysis of methods for high-speed forming the relief microimages on metallic substrates

Kryuchin, A.A. ; Pankratova, A.V. ; Kassko, I.A. ; Nagorny, F.V. ; Chirkov, D.V.

Інший ID: PACS 42.40.Ht, 42.79.Vb, 81.65.Cf

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/118339

Посилання: Analysis of methods for high-speed forming the relief microimages on metallic substrates / A.A. Kryuchin, A.V. Pankratova, I.A. Kassko, F.V.Nagorny, D.V.Chirkov // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2007. — Т. 10, № 4. — С. 87-93. — Бібліогр.: 17 назв. — англ.

Дата: 2007

Завантажень: 317

Analysis of methods for high-speed forming the relief microimages on metallic substrates

Анотація:

The use of methods of ion and electrochemical etching of metallic substrates to obtain relief microstructures with micron and submicron sizes is considered. Presented are the results of experimental researches of processes aimed at manufacturing metallic carriers by using inorganic photoresists.

Показати повний запис статті