Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

High-temperature configurations of dimers in Si (001) surface layers

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Kiv, A.E.
dc.contributor.author Maksymova, T.I.
dc.contributor.author Moiseenko, N.V.
dc.contributor.author Soloviev, V.N.
dc.date.accessioned 2017-05-27T09:57:33Z
dc.date.available 2017-05-27T09:57:33Z
dc.date.issued 2003
dc.identifier.citation High-temperature configurations of dimers in Si (001) surface layers / A.E. Kiv, T.I. Maksymova, N.V. Moiseenko, V.N. Soloviev // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2003. — Т. 6, № 1. — С. 14-18. — Бібліогр.: 13 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1560-8034
dc.identifier.other PACS: 68.35.Bs
dc.identifier.other PACS: 71.15.Pd
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/117867
dc.description.abstract Molecular Dynamics (MD) simulation of Si (001) surface layers was performed. In the modified algorithm of MD the potential is corrected on each step of calculation. The corrections account the re-hybridization of chemical bonds in relaxation processes. It was found that the high-temperature relaxation of Si surface layers leads to formation of Quasi-Disordered Phase (QDP). QDP is spread from the first layer up to the forth-fifth layer. In all these layers dimers are formed. Their characteristics (length distribution and space orientation) change from layer to layer. They differ significantly from dimers formed at lower temperatures. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
dc.title High-temperature configurations of dimers in Si (001) surface layers uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис