Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов

Abstract

Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы, а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы, при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов.

Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією та з прикладанням на підкладку високовольтних імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох типів наноструктурних покриттів за кольоровими характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на підкладку додаткових високовольтних імпульсів.

Two types nano-structructure TiN coatings obtained both by means of traditional technology and with substrate HV pulse bias have been investigated. It has been carried out the comparison both of nanostructure types data; color features, X-ray characteristics, fracture micrographs, concerning droplets presence, and nano-indentation as well. It has been found the formation of dropless superhard nanostructure TiN coatings while additional HV pulse substrate bias.