Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
| dc.contributor.author | Лисовский, В.А. | |
| dc.date.accessioned | 2016-04-17T19:40:46Z | |
| dc.date.available | 2016-04-17T19:40:46Z | |
| dc.date.issued | 2006 | |
| dc.identifier.citation | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України / В.А. Лисовский // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 143–168. — Бібліогр.: 77 назв. — рос. | uk_UA |
| dc.identifier.issn | 1999-8074 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98793 | |
| dc.description.abstract | В данной работе представлены результаты экспериментального исследования ВЧ емкостного разряда в SF₆, NF₃ и SiH₄ низкого давления. | uk_UA |
| dc.description.abstract | У роботі наведено результати експериментального дослідження ВЧ ємнісного розряду у SF₆, NF₃ та SiH₄ низького тиску. | uk_UA |
| dc.description.abstract | This paper presents the results of experimental studying rf capacitive discharge in low-pressure SF₆, NF₃ and SiH₄ . . | uk_UA |
| dc.language.iso | ru | uk_UA |
| dc.publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України | uk_UA |
| dc.relation.ispartof | Физическая инженерия поверхности | |
| dc.title | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления | uk_UA |
| dc.title.alternative | Дисоціативна мода вч ємнісного розряду низького тиску | uk_UA |
| dc.title.alternative | Dissociative mode in low-pressure rf discharge | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
| dc.status | published earlier | uk_UA |
| dc.identifier.udc | 533. 915 |
