Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Репозиторій DSpace/Manakin
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Інші назви:
Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si
Тема:
Электронно-лучевые процессы
Посилання:
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.
Дата:
2003
Переглядів:
752
Завантажень:
558
Анотація:
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.
