Квантовий розмірний ефект в електропровідності плівок міді, нанесених на поверхню підшарів кремнію та сурми

Abstract

Результати дослідження розмірних залежностей електропровідности щойно нанесених, «заморожено конденсованих» в умовах надвисокого вакууму плівок міді нанометрової товщини кількісно описано з використанням сучасних теорій квантового розмірного ефекту в металевих плівках. Осадження плівок міді на попередньо нанесені підшари сурми чи кремнію уможливлюють формувати зразки з меншою амплітудою поверхневих неоднорідностей. Показано, що одержані експериментальні дані найкраще узгоджуються з розрахунковими залежностями теорій, які враховують особливості морфології реальних плівок.

Результаты исследования размерных зависимостей свежеприготовленных, «замороженно конденсированных» в условиях сверхвысокого вакуума плёнок меди нанометровой толщины количественно описаны с использованием современных теорий квантового размерного эффекта в металлических плёнках. Рост конденсатов меди на поверхности подслоя сурьмы или кремния обеспечивает формирование плёнки с меньшей амплитудой поверхностных неоднородностей. Показано, что полученные экспериментальные данные хорошо согласуются с расчётными зависимостями теорий, учитывающих особенности морфологии реальных плёнок.

Conductivity–thickness dependences of quench-condensed copper films under ultrahigh-vacuum conditions are quantitatively described within the scope of the quantum-size effect modern theories for metal films. Copper films deposited on antimony or silicon underlayers form metal samples with smaller surface inhomogeneities. As shown, the experimental data have the best agreement with the theoretical calculations, which take into account the peculiarities of real metal-film surface morphology.