Increasing of mass transfer efficiency at magnetron deposition of metal coating

Abstract

The results of technological tests of longitudinal planar magnetron sputtering system (MSS) with a magnetically isolated anode working in pulse-modes with additional pulse heavy-current high-voltage supply source are presented. It is shown that efficiency of mass transfer in the pulse mode overcoating increases by three orders of magnitude as compared to stationary mode of magnetron discharge. Hereat there is no droplet phase at the copper coating that is typical for an arc evaporation of a cathode.

Представлены результаты технологических испытаний продольной планарной магнетронной распылительной системы с магнитоизолированным анодом в импульсных режимах работы с дополнительным импульсным сильноточным высоковольтным источником питания. Показано, что эффективность массопереноса при импульсном нанесении покрытий возрастает на три порядка по сравнению со стационарным режимом горения магнетронного разряда. При этом в нанесенном медном покрытии капельной фазы, характерной для дугового испарения катода, не наблюдалось.

Представлено результати технологічних випробувань поздовжньої планарної магнетронної розпилювальної системи з магнітоізольованим анодом в імпульсних режимах роботи з додатковим імпульсним сильнострумовим високовольтним джерелом живлення. Показано, що ефективність масопереносу при імпульсному нанесенні покриттів зростає на три порядки в порівнянні зі стаціонарним режимом горіння магнетронного розряду. При цьому в нанесеному мідному покритті краплинної фази, характерної для дугового випаровування катода, не спостерігалося.