Вакуумно-дуговое распыление поверхности подложки ионами хрома и молибдена

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення фізики і астрономії
→
Физическая инженерия поверхности
→
Физическая инженерия поверхности, 2009 (том 7)
→
Физическая инженерия поверхности, 2009, № 1-2
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Столбовой, В.А.
dc.date.accessioned	2010-04-22T17:00:23Z
dc.date.available	2010-04-22T17:00:23Z
dc.date.issued	2009
dc.identifier.citation	Вакуумно-дуговое распыление поверхности подложки ионами хрома и молибдена / В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2009. — Т. 7, № 1-2. — С. 90-95. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.	uk_UA
dc.identifier.issn	1999-8074
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7957
dc.description.abstract	Были рассмотрены вопросы вакуумно-дуговой очистки поверхности подложки путем бомбардировки ионами хрома и молибдена. Показано, что очистка поверхности ионами этих металлов более эффективна, чем ионами титана или циркония.	uk_UA
dc.description.abstract	Були розглянуті питання вакуумно-дугового очищення поверхні підкладинки шляхом бомбардування іонами хрому і молібдену. Показано, що очищення поверхні іонами цих металів ефективніше, ніж іонами титану або цирконію.	uk_UA
dc.description.abstract	The questions of the vacuum-arc cleaning of surface of substrates were considered by bombardment the ions of chrome and molybdenum. It is rotined that cleaning of surface is more effective the ions of these metals, than by the ions of titan or zirconium.	uk_UA
dc.language.iso	ru	uk_UA
dc.publisher	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України	uk_UA
dc.title	Вакуумно-дуговое распыление поверхности подложки ионами хрома и молибдена	uk_UA
dc.title.alternative	Вакуумно-дугове розпилення поверхні підкладки іонами хрому і титану	uk_UA
dc.title.alternative	Vacuum arc sputtering of subsrate surface by chrome and molybdenum ions	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	621.793.7