Влияние параметров импульсной работы вакуумно-дугового испарителя на концентрацию капель в формируемых пленках

Abstract

Исследовано относительное содержание капельной фазы на поверхности конденсируемых титановых пленок при вакуумно-дуговом испарении титана в непрерывном (до 30 с) и импульсном режимах горения дуги с различной скважностью. Показано, что концентрация крупных капель снижается с уменьшением времени горения дуги. Сделано предположение, что крупные капли образуются при столкновении более мелких в области катодного пятна. Мелкие капли формируются в разрядных ячейках, которые в совокупности и образуют катодное пятно.

Вивчено відносний склад крапельної фази на поверхні титанових плівок, що формуються при вакуумно-дуговому випарюванні титану в стаціонарному (до 30 с) та імпульсному режимах горіння дуги з різною скважністю. Показано, що концентрація великих краплин знижується із зменшенням часу горіння дуги. Зроблено допущення, що великі краплі створюються при зіткненні менших краплин в області катодної плями. Малі краплі формуються в розрядних ячейках, які створюють катодну пляму.

The relation contence of the drop phase at the surface of titanium films condensed by evaporation of titanium in continuous (about 30 seconds) and pulsed mades of an arc at different pulse and pause time hasabeen investigated. It is shown, that the concentration of large drops decreases with decreasing the arc burning time. The conjecture is made, that the large drops formation is a result of collision of small drops in the vicinity of a cathode spot. The small drops are emitted by discharge cells which form the cathode spot.