Об эффективности вакуумно-дуговых источников плазмы с сепарацией капельной фазы эрозии катода

Abstract

Проведен анализ литературных данных по оценкам эффективности плазменных фильтров и выполнены эксперименты по измерениям скорости осаждения покрытий в плазме вакуумной дуги. Результаты анализа литературы и данные измерений свидетельствуют о том, что токовая эффективность плазменных фильтров совпадает с эффективностью использования катодного материала для вакуума ~ 10-^4 Па. При наличии газа в фильтрующих системах токовая эффективность превышает эффективность использования катодного материала. В области давлений газа порядка нескольких Па следует учитывать влияние геометрии и потенциала подложкодежателя на результаты измерений скорости осаждения, необходимых для оценки эффективности использования катодного материала.

Проведено аналіз літературних даних по оцінках ефективності плазмових фільтрів і виконані експерименти по вимірах швидкості осадження покриттів у плазмі вакуумної дуги. Результати аналізу літератури й дані вимірів свідчать про те, що струмова ефективність плазмових фільтрів збігається з ефективністю використання катодного матеріалу для вакууму ~ 10-^4 Па. При наявності газу у фільтруючих системах струмова ефективність перевищує ефективність використання катодного матеріалу. В області тисків газу порядку декількох Па варто враховувати вплив геометрії й потенціалу підкладинки на результати вимірів швидкості осадження, необхідні для оцінки ефективності використання катодного матеріалу.

The literary data analysis is conducted by estimations of efficiency of plasma filters and the experiments are executed on measuring of deposition rate in vacuum-arc plasma. The results of literature analysis and information of measuring testify that current efficiency of plasma filters coincides with efficiency of the use of cathode material for a vacuum ~ 10-^4 Pa. At presence of gas in the filtering systems, current efficiency exceeds efficiency of the use of cathode material. In area of gas presence of about a few Pa it is necessary to take into account influence of substrate geometry and potential on the results of measuring of deposition rate, which is necessary for estimation of cathode material efficiency.