Лисовский, В.; Бут, Ж.П.; Ландри, K.; Дуэ, Д.; Касань, В.
(Физическая инженерия поверхности, 2004)
В настоящей работе исследованы характеристики процесса плазменной очистки технологической камеры, покрытой пленками нитрида кремния и аморфного кремния во фторсодержащих газах CF₄, SF₆ и NF₃ в высокочастотном емкостном ...