Вакуумно-дугове обладнання для іонно-плазмового осадження покриттів

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення ядерної фізики та енергетики
→
Вопросы атомной науки и техники
→
Bопросы атомной науки и техники, 2000
→
Вопросы атомной науки и техники, 2000, № 4
→
Переглянути статтю

dc.contributor.author	Аксьонов, І.І.
dc.contributor.author	Білоус, В.А.
dc.date.accessioned	2015-03-12T20:07:23Z
dc.date.available	2015-03-12T20:07:23Z
dc.date.issued	2000
dc.identifier.citation	Вакуумно-дугове обладнання для іонно-плазмового осадження покриттів / І.І. Аксьонов, В.А. Білоус // Вопросы атомной науки и техники. — 2000. — № 4. — С. 153-157. — Бібліогр.: 21 назв. — укр.	uk_UA
dc.identifier.issn	1562-6016
dc.identifier.uri	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/78212
dc.description.abstract	Наведено стислий огляд розробок ННЦ ХФТІ, спрямованих на створення технологічного обладнання для осадження покриттів вакуумно-дуговим методом. Розроблюване обладнання мало бути адаптоване до умов індустріального виробництва, придатне для комерційного використання. Розглянуто результати розробок високоефективних торцевих джерел плазми, вакуумно-дугових випарювачів з протяглими (циліндричними та планарними) катодами, магнітні фільтри для очищення плазми від макрочасток, а також ряд установок для формування покриттів різного призначення.	uk_UA
dc.language.iso	uk	uk_UA
dc.publisher	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України	uk_UA
dc.relation.ispartof	Вопросы атомной науки и техники
dc.subject	Физика радиационных и ионно-плазменных технологий	uk_UA
dc.title	Вакуумно-дугове обладнання для іонно-плазмового осадження покриттів	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
dc.status	published earlier	uk_UA
dc.identifier.udc	546.25.-162