Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів — середовищ для голографії та оптичного запису інформації

Домашня сторінка
→
Фізико-технічні та математичні науки
→
Відділення інформатики
→
Реєстрація, зберігання і обробка даних
→
Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2008 (том 10)
→
Реєстрація, зберігання і обробка даних, 2008, № 2
→
Переглянути статтю

Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів — середовищ для голографії та оптичного запису інформації

Тарнай, А.А. ; Кириленко, В.К. ; Рубіш, В.М. ; Гера, Е.В.

Інші назви: Установка для исследования процессов жидкостного травления пленочных объектов — сред для голографии и оптической записи информации
Apparatus for Investigation of Liquid Etching Processes of Film Objects — Media for Holography and Optical Information Recording

Тема: Фізичні основи, принципи та методи реєстрації даних

УДК: 004.08; 004.023; 004.085

URI: http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7565

Посилання: Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів - середовищ для голографії та оптичного запису інформації / А.А. Тарнай, В.К. Кириленко, В.М. Рубіш, Е.В. Гера // Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2008. — Т. 10, № 2. — С. 32-36. — Бібліогр.: 10 назв. — укp.

Дата: 2008

Завантажень: 687

Установка для дослідження процесів рідинного травлення неорганічних резистів — середовищ для голографії та оптичного запису інформації

Анотація:

Розроблено установку для дослідження кінетики рідинного травлення тонких плівок халькогенідних склоподібних матеріалів (неорганічних резистів) і одержання інформаційного мікрорельєфу в статичному, динамічному з циркуляцією та динамічному з утилізацією травника режимах в інтервалі температур 293 - 353 K

Разработана установка для исследования кинетики жидкостного травления тонких пленок халькогенидных стеклообразных материалов (неорганических резистов) и получения информационного микрорельефа в статическом, динамическом с циркуляцией и динамическом с утилизацией травителя режимах в интервале температур 293–253 К.

An apparatus for investigations of liquid etching kinetics of thin chalcogenide vitreous films (inorganic resist) in static, dynamic with circulation and dynamic with utilization of the etchant, modes in the temperature range of 293–353 K and obtaining an information microrelief is developed.

Показати повний запис статті