Прямий метод формування поверхневих рельєфних ґраток у плівках халькогенідних стекол

Abstract

Методом атомно-силової мікроскопії досліджено кінетику росту поверхневих рельєфів у плівках бінарних халькогенідних систем. Визначено оптимальні склади плівок і режими запису поверхневих рельєфних ґраток. Обговорюється механізм формування рельєфу.

Методом атомно-силовой микроскопии исследована кинетика роста поверхностных рельефов в пленках бинарных халькогенидных систем. Определены оптимальные составы пленок и режимы записи поверхностных рельефных решеток. Обсуждается механизм формирования рельефа.

Kinetics of the growth of surface relief in binary chalcogenide systems films by atomic-force microscopy technique is investigated. The optimal film compositions and the recording modes of surface relief gratings are determined. The mechanism of relief forming is discussed.