Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

High-field forming of tungsten surface by evaporation in liquid nitrogen

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Sadanov, E.V.
dc.contributor.author Mazilov, A.A.
dc.contributor.author Gordienko, J.A.
dc.contributor.author Mazilova, T.I.
dc.contributor.author Mikhailovskij, I.M.
dc.date.accessioned 2023-12-07T10:50:17Z
dc.date.available 2023-12-07T10:50:17Z
dc.date.issued 2022
dc.identifier.citation High-field forming of tungsten surface by evaporation in liquid nitrogen / E.V. Sadanov, A.A. Mazilov, J.A. Gordienko, T.I. Mazilova, I.M. Mikhailovskij // Problems of Atomic Science and Technology. — 2022. — № 1. — С. 85-89. — Бібліогр.: 12 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1562-6016
dc.identifier.other PACS: 61.16.FK, 68.49.SF
dc.identifier.other DOI: https://doi.org/10.46813/2022-137-085
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/195820
dc.description.abstract The basic obstacle to the application of the method of low-temperature field evaporation is the necessity of the creation of superhigh electric fields on the surface of the processing object. There are problems connected with the destruction of objects under the action of mechanical stress, generated by an electric field. In this contribution was shown that the phenomenon of high-field evaporation of metals in liquid nitrogen could be used for controlled forming of metal products with the sizes in a nanometer range used in modern nanotechnology. The evolution of microtopography was investigated by methods of field ion and electron microscopy and conventional methods of scanning electron microscopy. This contribution shows that as distinct from low-temperature evaporation in a high vacuum evaporation is observed here in a wide range of electric field strengths 4…57 V/nm. In the proposed treatment process the mechanical stress of the electric field falls as low as 20 kg/mm². This value is less than the macroscopic strength by an order of magnitude. uk_UA
dc.description.abstract Суттєвою перепоною в застосуванні методу низькотемпературного польового випарування є необхідність створення надсильних електричних полів на поверхні об’єкта, що оброблюється. У таких полях виникають проблеми, пов’язані з руйнуванням об’єктів під дією механічних напружень, які створюються електричним полем. У цій роботі було показано, що явище високопольового випаровування металів у рідкому азоті може бути використано для контрольованого формозмiнення металевих виробів з розмірами в нанометровому діапазоні, які застосовуються в сучасній нанотехнологiї. Еволюцію мікротопографії було досліджено методами польової іонної та електронної мікроскопії і традиційними методами скануючої електронної мікроскопії. Показано, що на відміну від польового випаровування у високому вакуумі, ефект спостерігається в широкому інтервалі напруженостей поля – 4…57 В/нм. У цьому разі механічні напруження електричного поля знижуються до 20 кг/мм², що на порядок менше межі макроскопічної міцності. uk_UA
dc.description.abstract Существенной преградой в применении метода низкотемпературного полевого испарения является необходимость создания сверхсильных электрических полей на поверхности обрабатываемого объекта. В таких полях возникают проблемы, связанные с разрушением объектов под воздействием механических напряжений, создаваемых электрическим полем. В этой работе было показано, что явление высокополевого испарения металлов в жидком азоте может быть использовано для контролируемого формоизменения металлических изделий с размерами в нанометровом диапазоне, которые применяются в современной нанотехнологии. Эволюция микротопографии была исследована методами полевой ионной и электронной микроскопии и традиционными методами сканирующей электронной микроскопии. Показано, что в отличие от низкотемпературного полевого испарения в высоком вакууме, эффект наблюдается в широком интервале напряженностей поля – 4…57 В/нм. В этом случае механические напряжения электрического поля снижаются до 20 кг/мм², что на порядок меньше предела макроскопической прочности. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Вопросы атомной науки и техники
dc.subject Physics and technology of structural materials uk_UA
dc.title High-field forming of tungsten surface by evaporation in liquid nitrogen uk_UA
dc.title.alternative Високопольове формування поверхні вольфраму випаровуванням у рідкому азоті uk_UA
dc.title.alternative Высокополевое формирование поверхности вольфрама испарением в жидком азоте uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис