Проведены электронографические трансмиссионные исследования пленок N₂O, выращенных при температурах 11-18 К и медленно нагреваемых до 45 К. Структурные данные настоящего сообщения позволяют идентифицировать обнаруженное ранее [ 1 ] резкое изменение формы внутримолекулярных полос отражения пленок N₂O как кристаллизационную трансформацию, при которой аморфная компонента (существование которой при низких температурах представляет собой аномалию, среди криокристаллов характерную только для N₂O [2]) теряет метаустойчивость вблизи 39-42 Кив результате быстрой кристаллизации трансформируется в РаЗ структуру.
Проведено електронографічні трансмісійні дослідження плівок N₂O, вирощених при температурах 11-18 К та повільно нагрітих до 45 К. Структурні дані цього повідомлення дозволяють ідентифікувати виявлену раніше [1] різьку зміну форми внутрішньомолекулярних смуг відбиття плівок N₂O як кристалізаційну трансформацію, при якій аморфна компонента (існування якої при низьких температурах є аномалією, серед кріокристалів характерною тільки для N₂O [2]) утрачає метастійкість поблизу 39-42 К і в результаті швидкої кристалізації трансформується в РаЗ структуру.
Transmission electron diffraction studies were carried out on N₂O Films grown at temperatures 11-18 К and subsequently slowly warmed up to 45 K. The structure data obtained made it possible to identify the reported earlier [1] abrupt changes of the reflectivity bands at the intramolecular frequencies of N₂O above 40 К as a crystallization transformation in which the amorphous component (whose very existence is an ano- ' maly, characteristic only of N₂O among all the cryocrystals [2]) looses its stability and undergoes a fast crystallization forming the Pa3 structure.
