Показати простий запис статті
dc.contributor.author |
Onoprienko, A.A. |
|
dc.contributor.author |
Ivashchenko, V.I. |
|
dc.contributor.author |
Kozak, A.O. |
|
dc.contributor.author |
Sinelnichenko, A.K. |
|
dc.contributor.author |
Tomila, T.V. |
|
dc.date.accessioned |
2020-03-23T19:47:59Z |
|
dc.date.available |
2020-03-23T19:47:59Z |
|
dc.date.issued |
2019 |
|
dc.identifier.citation |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target / A.A. Onoprienko, V.I. Ivashchenko, A.O. Kozak, A.K. Sinelnichenko, T.V. Tomila // Надтверді матеріали. — 2019. — № 2 (238). — С. 29-38. — Бібліогр.: 34 назв. — англ. |
uk_UA |
dc.identifier.issn |
0203-3119 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/167298 |
|
dc.description.abstract |
The effect of the gas mixture composition on the structure, chemical bond character and hardness of Si–B–C–N films was systematically studied. A series of Si–B–C–N films was deposited by reactive dc magnetron sputtering of the target composed of Si disc with B₄C chips placed in the sputtering zone of disc. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Досліджено вплив складу газової суміші на структуру, хімічні зв’язки та твердість Si–B–C–N-плівок, одержаних методом реакційного на постійному струмі магнетронного розпилення мішені, складеної з кремнієвого диску та пластинок B₄C, розміщених в зоні розпилення мішені. |
uk_UA |
dc.description.abstract |
Исследовано влияние состава газовой смеси на структуру, химические связи и твердость Si–B–C–N, полученных методом реакционного на постоянном токе магнетронного распыления мишени, состоящей из кремниевого диска, в зоне распыления которого были расположены пластинки соединения B₄C. |
uk_UA |
dc.description.sponsorship |
The authors are grateful to Dr. O. I. Bykov and Dr. E. I. Olifan for XRD measurements. |
uk_UA |
dc.language.iso |
en |
uk_UA |
dc.publisher |
Інститут надтвердих матеріалів ім. В.М. Бакуля НАН України |
uk_UA |
dc.relation.ispartof |
Сверхтвердые материалы |
|
dc.subject |
Одержання, структура, властивості |
uk_UA |
dc.title |
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B₄C target |
uk_UA |
dc.type |
Article |
uk_UA |
dc.status |
published earlier |
uk_UA |
dc.identifier.udc |
539.23:620 |
|
Файли у цій статті
Ця стаття з'являється у наступних колекціях
Показати простий запис статті