Методами физического материаловедения изучено влияние дополнительных слоёв Au с низкой поверхностной энергией (≈ 1,5 Дж/м²) в плёночных композициях [Fe₅₀Pt₅₀(15 нм)/Au(7,5 нм)/Fe₅₀Pt₅₀(15 нм)]n (где n = 1, 2), полученных методом магнетронного осаждения на подложках SiO₂ (100 нм)/Si(001), на процессы термически активируемого формирования упорядоченной фазы L1₀-FePt при отжигах в вакууме.
Методами фізичного матеріялознавства вивчено вплив додаткових шарів Au з низькою поверхневою енергією (≈ 1,5 Дж/м²) у плівкових композиціях [Fe₅₀Pt₅₀(15 нм)/Au(7,5 нм)/Fe₅₀Pt₅₀(15 нм)]n (де n = 1, 2), одержаних методою магнетронного осадження на підкладках SiO₂ (100 нм)/Si(001), на процеси термічно активованого формування впорядкованої фази L1₀-FePt при відпалах у вакуумі.
By means of the materials science methods, the effect of additional Au layers with a low surface energy (of ≈ 1.5 J/m²) in [Fe₅₀Pt₅₀(15 nm)/Au(7.5 nm)/Fe₅₀Pt₅₀(15 nm)]n film compositions (where n = 1, 2) obtained by the magnetron sputtering on SiO₂ (100 nm)/Si(001) substrates on processes of thermally activated ordered L1₀-phase formation at annealing in vacuum is studied.