Рассмотрено преобразование поляризации электромагнитного поля при дифракции на полупрозрачной структуре, состоящей из дифракционной решетки и слоистой среды, включающей киральный слой. Векторная задача дифракции решена с применением процедуры аналитической регуляризации. Исследованы условия установления режимов полного преобразования падающего линейно поляризованного поля в прошедшее поле кросс-поляризации и существенного преобразования поляризации отраженного поля. Изучено влияние параметров структуры на характер дифракции.
Розглянуто перетворення поляризації електромагнітного поля при дифракції на напівпрозорій структурі, що складається з дифракційної ґратки та шаруватого середовища, яке містить кіральний шар. Векторну задачу дифракції розв’язано з використанням процедури аналітичної регуляризації. Досліджено умови встановлення режимів повного перетворення падаючого лінійно поляризованого поля в поле крос-поляризації та значного перетворення поляризації відбитого поля. Вивчено вплив параметрів структури на характер дифракції.
We consider conversion of the electromagnetic field polarization as a result of diffraction by semi-transparent structure consisting of the diffraction grating and layered medium which includes a chiral layer. The diffraction vector problem is solved making use of the analytical regularization procedure. The conditions for total conversion of incident lineally polarized field into transmitting field of cross polarization as well as for significant polarization conversion of the reflected field are investigated. The influence of the structure parameters on the character of diffraction is studied.
