Показати простий запис статті

dc.contributor.author Venger, E.F.
dc.contributor.author Melnichuk, L.Yu.
dc.contributor.author Melnichuk, A.V.
dc.contributor.author Semikina, T.V.
dc.date.accessioned 2017-06-13T18:28:05Z
dc.date.available 2017-06-13T18:28:05Z
dc.date.issued 2015
dc.identifier.citation Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD / E.F. Venger, L.Yu. Melnichuk, A.V. Melnichuk, T.V. Semikina // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2015. — Т. 18, № 4. — С. 422-427. — Бібліогр.: 15 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1560-8034
dc.identifier.other DOI: 10.15407/spqeo18.04.422
dc.identifier.other PACS 71.36.+c, 73.20.20.Mf
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121268
dc.description.abstract The conductive ZnO films deposited using atomic layer deposition (ALD) on the optical glass substrates were studied using the modified method of the disturbed total internal reflection within the range 400…1400 cm⁻¹ for the first time. The frequency “windows” with the obtained excited surface phonon and plasmon-phonon polaritons have been found in the measured infrared reflectance spectra. The dispersion response of high and low frequency branches of the IR spectra have been presented. uk_UA
dc.description.sponsorship Author Semikina T.V. expresses gratitude to Prof. M.Godlewski (Warsaw, Poland) for possibility of providing this experimental work and deposition of ZnO films by using the ALD equipment Savannah-100 uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
dc.title Surface polariton excitation in ZnO films deposited using ALD uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис