Показати простий запис статті

dc.contributor.author Karachevtseva, L.A.
dc.contributor.author Lytvynenko, O.A.
dc.contributor.author Malovichko, E.A.
dc.contributor.author Sobolev, V.D.
dc.contributor.author Stronska, O.J.
dc.date.accessioned 2017-06-05T17:16:33Z
dc.date.available 2017-06-05T17:16:33Z
dc.date.issued 2001
dc.identifier.citation Bolometric characteristics of macroporous silicon structures / L.A. Karachevtseva, O.A. Lytvynenko, E.A. Malovichko, V.D. Sobolev, O.J. Stronska // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2001. — Т. 4, № 3. — С. 177-181. — Бібліогр.: 10 назв. — англ. uk_UA
dc.identifier.issn 1560-8034
dc.identifier.other PACS: 71.25.Rk, 81.60Cp
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/119270
dc.description.abstract Bolometric characteristics of macroporous silicon were investigated. Ohmic structures of the type «In/n-Si» and «In/macroporous n-Si» were formed by thermal evaporation of indium in an atmosphere of hydrogen. Temperature dependencies of electron conductivity, concentration and mobility in macroporous silicon emulate the temperature curves of the corresponding parameters for crystalline silicon. The investigated macroporous silicon structures are promising material for multi-element thermal sensor fabrication due to a high temperature coefficient of electrical resistance (1-4%), low noise level (2*10⁻⁹ VHz⁻¹/²) and good radiation absorption in the operation spectral region. uk_UA
dc.language.iso en uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
dc.title Bolometric characteristics of macroporous silicon structures uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис