Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України
періодичних видань НАН України
Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate
Репозиторій DSpace/Manakin
- Домашня сторінка
- →
- Фізико-технічні та математичні науки
- →
- Відділення фізики і астрономії
- →
- Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics
- →
- Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2011, том 14
- →
- Semicond. Physics Quantum Electronics & Optoelectronics, 2011, № 1
- →
- Переглянути статтю
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate
Інший ID:
PACS 68.Ln, 78.20.-e, 85.60.Gz
Посилання:
Optical properties of ion implanted thin Ni films on lithium niobate / V.O. Lysiuk, V.S. Staschuk, I.G. Androsyuk, N.L. Moskalenko // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2011. — Т. 14, № 1. — С. 59-61. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
Підтримка:
The work is a part of scientific research on topic
“Optical and magneto-optical properties of surface
layers and films with different type of conductivity”,
registration number 06 БФ 051-10, 2006-2010.
Дата:
2011
Переглядів:
802
Завантажень:
397
Анотація:
Ion implantation by keV Ar⁺ ions creates blisters on the surface of thin Ni films deposited on lithium niobate and causes changes in optical properties and structure of Ni film and lithium niobate substrate. Processes of ion implantation and effects of increasing absorption, adhesion, damage threshold are described and explained in the paper. Development of pyroelectric photodetector “thin Ni film – lithium niobate” is proposed.
