Рассмотрено влияние спин-орбитального взаимодействия на туннелирование между двумерными электронными слоями. Получено общее выражение для туннельного тока с учетом эффектов Рашбы и Дрессельхауза, а также упругого рассеяния носителей заряда на примесях. Показано, что конкретный вид зависимости туннельной проводимости от электрического напряжения между слоями чрезвычайно чувствителен к соотношению параметров Рашбы и Дрессельхауза. Это позволяет определять параметры спин-орбитального взаимодействия и квантовое время рассеяния непосредственно при измерении туннельной проводимости без внешнего магнитного поля.
Розглянуто вплив спін-орбітальної взаємодії на тунелювання між двовимірними електронними
шарами. Отримано загальний вираз для тунельного струму з урахуванням ефектів Рашби та Дрессельхауза, а також пружного розсіювання носіїв заряду на домішках. Показано, що конкретний вид залежності тунельної провідності від електричної напруги між шарами надзвичайно чутливий до співвідношення параметрів Рашби та Дрессельхауза. Це дозволяє визначати параметри спін-орбітальної
взаємодії та квантовий час розсіювання безпосередньо при вимірі тунельної провідності без зовнішнього магнітного поля.
The influence of spin-orbit interaction on the
tunneling between two 2D electron layers is considered.
A general expression for tunneling current
is obtained with account for Rashba and Dresselhaus
effects and elastic scattering by impurities. It
is demonstrated that a particular dependence of
tunneling conductance on external voltage is very
sensitive to the relation between Rashba and Dresselhaus
contributions. This makes it possibile to
determine the parameters of spin-orbit interaction
and electron quantum lifetime just when measuring
the on tunneling between low-dimensional electron
layers without any external magnetic field.