Наукова електронна бібліотека
періодичних видань НАН України

Исследование стабильности характеристик рН-чувствительных полевых транзисторов

Репозиторій DSpace/Manakin

Показати простий запис статті

dc.contributor.author Павлюченко, А.С.
dc.contributor.author Кукла, А.Л.
dc.contributor.author Голтвянский, Ю.В.
dc.contributor.author Архипова, В.М.
dc.contributor.author Дзядевич, С.В.
dc.contributor.author Солдаткин, А.П.
dc.date.accessioned 2017-04-07T17:50:31Z
dc.date.available 2017-04-07T17:50:31Z
dc.date.issued 2010
dc.identifier.citation Исследование стабильности характеристик рН-чувствительных полевых транзисторов / А.С. Павлюченко, А.Л. Кукла, Ю.В. Голтвянский, В.М. Архипова, С.В. Дзядевич, А.П. Солдаткин // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2010. — Вип. 45. — С. 90-99. — Бібліогр.: 20 назв. — рос. uk_UA
dc.identifier.issn 0233-7577
dc.identifier.uri http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/115599
dc.description.abstract Исследован дрейф вольт-амперных характеристик и порогового напряжения p- канальных ионоселективных полевых транзисторов с индуцированным каналом при долговременных воздействиях открывающего рабочего напряжения, приложенного к области канала через двухслойный подзатворный диэлектрик SiO₂/Si₃N₄. Приведены данные экспериментов, на основании которых выдвинуто предположение о механизме наблюдаемой нестабильности. Показано, что отжиг в водороде на завершающей стадии процесса изготовления датчиков улучшает стабильность их характеристик. uk_UA
dc.description.abstract The drift of transfer characteristics and threshold voltage of the p-channel ionselective field-effect transistors with induced channel, caused by long-term continuos influence of negative voltage applied to the channel area through the two-layer SiO₂/Si₃N₄ gate dielectric has beck investigated. Based on the experimental data a mechanism of the observed instability is proposed. It is shown that annealing in hydrogen at the final stage of sensors manufacturing improves the stability of their characteristics. uk_UA
dc.description.sponsorship Работа выполнена при финансовой поддержке НАН Украины в рамках комплексной научно-технической программы «Сенсорні системи для медико-екологічних та промислово-технічних потреб», а также проекта УНТЦ № 4591. uk_UA
dc.language.iso ru uk_UA
dc.publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України uk_UA
dc.relation.ispartof Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
dc.title Исследование стабильности характеристик рН-чувствительных полевых транзисторов uk_UA
dc.title.alternative Investigation of stability of characteristics of the рН-sensitive field effect transistors uk_UA
dc.type Article uk_UA
dc.status published earlier uk_UA
dc.identifier.udc 621.315.592


Файли у цій статті

Ця стаття з'являється у наступних колекціях

Показати простий запис статті

Пошук


Розширений пошук

Перегляд

Мій обліковий запис