Анотація:
Приведены результаты исследования ускорения (до 80 кєВ) части электронов плазмы (до 10%), и нагрева электронов и ионов основной компоненты плазмы в пучково-плазменного разряде, в условиях wре>ώΗẻ, ņb/ņpe ~5 10⁻³, электронным пучком (c энергией 5 кэВ, ток до 100 мА) в магнитном поле до 0.2 Tл с плотностью плазмы ņpe ~10¹¹ эл/см³. Определена область локализации ускоренных электронов по рентгеновскому излучению из пучково-плазменного разряда. Показано, что большая часть ускоренных электронов движется навстречу пучку. Приведена диаграмма направленности движения высокоэнергетичных электронов в ППР, движущихся навстречу пучку. Исследовано распределение амплитуды возбуждаемых высокочастотных колебаний вдоль высокочастотных колебаний движения пучка. Показано, что область локализации высокоэнергетичных электронов ’привязана’ к максимальной амплитуде возбуждаемых колебаний. Определена временная корреляция электронной температуры и плотности плазмы (ņpe). Изучена корреляция между амплитудой высокочастотных и низкочастотных колебаний, плотностью и температуры электронов плазмы в пучково-плазменном разряде